spessore Sapphire Wafer Quartz Glass 4inch di 100um 200um 300um 650um

vetro di quarzo del wafer dello zaffiro di spessore di 4inch 100um 200um 300um

il lato singolo o doppio dell'C-aereo di 4inch Sapphire Wafer ha lucidato il monocristallo Al2O3

aereo singolo Crystal Sapphire Wafer di 4inch Dia100mm A

asse singolo Crystal Sapphire Wafer Sapphire Substrates di 2inch Dia50mm C
 8inch diametro 159mm singolo Crystal Sapphire Wafer For Epi - trasportatore pronto
il wafer dello zaffiro di R-asse dell'c-aereo di 4inch/5inch/6inch/6.125inch/8inch (1-102) (10-10), i substrati dello zaffiro di dia200mm, il wafer per epi-pronto principale, i substrati dello zaffiro, dello zaffiro lucidato doppio lato di C-asse 2-6inch la lente ottica di cristallo Al2O3, doppio lato ha lucidato la superficie 8" di SSP C-aereo di Sapphire Carrier Wafer (0001) con il migliore prezzo, 8inch il diametro 159mm singolo Crystal Sapphire Wafer For Epi - trasportatore pronto

Che cosa è la composizione del wafer dello zaffiro?

Lo zaffiro sintetico è forma di monocristallo di ossido di alluminio (Al2O3). Presenta le proprietà fisiche e chimiche uniche come la resistenza ad alta temperatura, la resistenza di shock termici, la resistenza del graffio e ad alta resistenza, la perdita dielettrica bassa ed il buon isolamento elettrico.

Perché scelga i singoli prodotti di Crystal Sapphire?
Lo zaffiro di monocristallo possiede le proprietà ottiche, fisiche e chimiche eccellenti. È i cristalli dell'ossido più duri e rimane la resistenza ad alta resistenza e chimica alle temperature elevate. Inoltre caratterizza un'ampia lunghezza d'onda della trasmissione, un grande isolamento elettrico e una buona conducibilità termica al minimo
temperature.
 
Specifiche di Sapphire Wafer, a 4 pollici, C-aereo (0001), grado principale

Proprietà elettriche di zaffiro
Resistività, ohm x cm a °C 200-500: 1011 - 1016
Costante dielettrica: 10,0
Resistenza dielettrica, V/cm: 4 x 105
Tangente di perdita: 1 x 10-4

 

Applicazione

Alcune proprietà chiave dei wafer dello zaffiro comprendono la loro alta conducibilità termica, alta forza meccanica, resistenza eccellente del graffio e del prodotto chimico e trasparenza nelle regioni visibili e vicine all'infrarosso dello spettro. Queste proprietà rendono i wafer dello zaffiro ben adattati per una vasta gamma di applicazioni negli ambienti duri, quali temperatura elevata, alta pressione e le circostanze corrosive.

Come lo spessore di un wafer a 4 pollici dello zaffiro colpisce la sua prestazione?

Lo spessore di un wafer a 4 pollici dello zaffiro può avere un impatto significativo sulla sua prestazione secondo l'applicazione specifica. Qui sono alcuni modi in cui lo spessore può colpire la prestazione:

1. Forza meccanica: I wafer più spessi dello zaffiro generalmente hanno più alta forza meccanica e sono più resistenti all'incrinamento o alla rottura nell'ambito dello sforzo meccanico. Ciò può essere importante nelle applicazioni dove il wafer può essere sottoposto agli alti carichi meccanici o manipolazione non corretta.

2. Proprietà ottiche: Lo spessore di un wafer dello zaffiro può colpire le sue proprietà ottiche, come la trasmissione, la riflessione e dispersione. Per esempio, i wafer più sottili possono trasmettere più leggero dei wafer più spessi, ma possono anche essere più suscettibili dei difetti superficiali o dello scattering leggero.

3. Conducibilità termica: I wafer più spessi dello zaffiro hanno generalmente più alta conducibilità termica, che può essere importante nelle applicazioni dove il wafer è esposto alle temperature elevate ed alle necessità dissipare efficientemente il calore.

4. Proprietà elettriche: Lo spessore di un wafer dello zaffiro può anche colpire le sue proprietà elettriche, quali la resistenza e la capacità. Per esempio, i wafer più sottili possono avere la resistenza più bassa ma più alta capacità che i wafer più spessi.

Processo di produzione

1. Crescita dei cristalli: Lo zaffiro monocristallino si sviluppa tipicamente facendo uso del metodo di Verneuil o del metodo di Kyropoulos. Nel metodo di Verneuil, una forma in polvere di ossido di alluminio (Al2O3) è fusa facendo uso di una fiamma ad alta temperatura e poi è permessa raffreddarsi e solidificare in un monocristallo. Nel metodo di Kyropoulos, un a cristallo di seme è immerso in un bagno di Al2O3 fuso e lentamente che è ritirato mentre gira, permettendo che il cristallo si sviluppi dalla colata.

2. Taglio e modellare: Una volta che il cristallo si è sviluppato, è wafer incisi facendo uso di una sega del diamante o di un laser. I wafer poi sono modellati e lucidati allo spessore desiderato ed alla finitura superficia.

3. Pulizia: I wafer dello zaffiro sono puliti facendo uso di una combinazione di metodi meccanici, chimici ed ultrasonici per rimuovere tutti i contaminanti di superficie e per preparare la superficie per più ulteriore trasformazione.

4. Verniciatura: In alcuni casi, i dopant possono aggiungersi ai wafer dello zaffiro per alterare le loro proprietà elettriche o ottiche. Ciò è fatta tipicamente facendo uso dei metodi della diffusione o di impiantazione ionica.

5. Incisione: I wafer dello zaffiro possono essere incisi facendo uso di vari a processi chimici o basati a plasma per creare i modelli o le caratteristiche sulla superficie. Ciò è comunemente usata nella lavorazione dei dispositivi microelettronici.

6. Metrologia: I wafer dello zaffiro poi sono sottoposti alle varie tecniche della metrologia per misurare il loro spessore, la planarità, la rugosità di superficie ed altre proprietà. Ciò è importante da assicurarsi che i wafer rispondano alle specifiche richieste per l'applicazione progettata.

7. Imballaggio: La tappa finale nel processo di produzione è di imballare i wafer dello zaffiro per la spedizione ai clienti. Ciò comprende tipicamente disporre i wafer in contenitori protettivi per impedire il danno durante trasporto e lo stoccaggio.

Imballaggio dei wafer dello zaffiro

 
 
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: Sì, possiamo personalizzare il materiale, le specifiche ed il rivestimento ottico per il vostro ottico
componenti basate sui vostri bisogni.